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Silicon implantation and annealing in β-Ga2O3: Role of ambient, temperature, and time |
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期刊:Journal of Applied Physics 作者:K. Gann; N. Pieczulewski; C. Gorsak; K. Heinselman; T. Asel; et al 出版日期:2024-01-05 |
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(2025-6-4)