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标题
Temperature Effect on the Growth Rate and Physical Characteristics of SnO2 Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition
相关领域
原子层沉积 图层（电子） 材料科学 沉积（地质） 原子层外延 薄膜 逐层 薄层 光电子学 纳米技术 化学工程 地质学 工程类 古生物学 沉积物
网址
https://doaj.org/article/d208a46d0203425a905e10f60a3d8e4f
AI链接 doaj.orgdoi.org
DOI
10.24425/122443 doi
其它 期刊：DOAJ (DOAJ: Directory of Open Access Journals)
作者：Daeho Kim; Dong‐Ha Kim; Doh‐Hyung Riu; Byung Joon Choi
出版日期：2018-06-01
求助人
slby 在 2025-10-28 15:36:27 发布自河南，悬赏 10 积分
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