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 Surface roughening of silicon, thermal silicon dioxide, and low-k dielectric coral films in argon plasma 氩等离子体中硅、热二氧化硅和低k介电珊瑚膜的表面粗糙化
相关领域
溅射
材料科学
硅
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氩
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Yunpeng Yin; Herbert H. Sawin 出版日期：2008-01-01 |
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