Mitigating challenges in aberration-corrected electron-beam lithography on electron-opaque substrates

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标题	Mitigating challenges in aberration-corrected electron-beam lithography on electron-opaque substrates 相关领域倍半硅氧烷氢抵抗材料科学电子束光刻平版印刷术不透明度光电子学光学扫描电子显微镜基质（水族馆）制作阴极射线纳米技术电子复合材料图层（电子）病理医学替代医学物理海洋学地质学量子力学
网址	https://doi.org/10.1088/1361-6528/ad0908
DOI	10.1088/1361-6528/ad0908 doi
其它	期刊：Nanotechnology 作者：Fernando Camino; Nikhil Tiwale; Sooyeon Hwang; Xu Du; Judith C. Yang 出版日期：2023-11-02
求助人	高贵春天在 2026-01-05 11:01:35 发布自重庆，悬赏 10 积分
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