CF4 plasma-based atomic layer etching of Al2O3 and surface smoothing effect

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标题	CF4 plasma-based atomic layer etching of Al2O3 and surface smoothing effect CF4等离子体原子层刻蚀Al2O3及其表面平滑效应相关领域 X射线光电子能谱蚀刻（微加工）干法蚀刻等离子体表面粗糙度分析化学（期刊）材料科学反应离子刻蚀等离子体刻蚀氧化物图层（电子）表面光洁度化学纳米技术化学工程复合材料冶金物理量子力学色谱法工程类
网址	https://doi.org/10.1116/6.0002210
DOI	10.1116/6.0002210 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology. A. Vacuum, surfaces, and films 作者：Chien-Wei Chen; Wen-Hao Cho; Chan-Yuen Chang; Cheng‐Kuan Su; Nien-Nan Chu; et al 出版日期：2022-12-30
求助人	追梦在 2024-04-26 15:23:00 发布自湖北，悬赏 10 积分
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