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标题
[求助补充材料] Band Alignment and Interfacial Stability of Co3O4 vs NiO as a Hole Transport Layer with FA0.4MA0.6PbI3 Perovskite
Co3O4与NiO作为Fa0.4MA 0.6 PbI3钙钛矿空穴传输层的能带排列和界面稳定性
相关领域
材料科学 非阻塞I/O 图层（电子） 纳米技术 生物化学 化学 催化作用
网址
https://doi.org/10.1021/acsami.4c20008
AI链接 nih.govdoi.org
DOI
10.1021/acsami.4c20008 doi
其它 期刊：ACS Applied Materials & Interfaces
作者：Xuewei Zhang; Xiaxia Cui; Qidong Tai; Daping Chu; Yuzheng Guo; et al
出版日期：2025-04-08
求助人
guotonghui 在 2025-04-30 14:48:46 发布自湖北，悬赏 20 积分
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