Fabrication of NiO coated SiO2 and SiO2 coated NiO for the removal of Pb2＋ ions

我们准备了硅石， SiO2 涂的 NiO 和 NiO 由大音阶的第五音胶化的涂的 SiO2 方法。需要的材料的物理化学的性质被表面充电性质调查，扫描电子显微镜学(SEM ) ，精力散 X 光检查(EDX ) 光谱学，表面区域大小和 X 光检查衍射(XRD ) 分析。固体的零费用(PZC ) 的点被盐增加方法决定。在涂的材料，二 PZC 价值被注意代表他们的对应物的表面费用。， SiO2 涂的 NiO 的 SEM 图象在 NiO 涂的 SiO2 的情况下在 NiO 的表面上显示硅石的一致涂层，象外观一样的一个蜂房与高度多孔的结构被观察。在 NiO 的 diffractograms，然而，典型山峰在 NiO 涂的硅石被压制没有衍射山峰能在 SiO2 涂的 NiO 被看见。批吸附技术被申请从水的答案的 Pb2+ 离子的移动。为 Pb2+ 离子的吸着趋势在 NiO 涂的 SiO2 的顺序被观察 > SiO2 涂的 NiO > NiO > SiO2。这个趋势证实涂的材料比他们的父母对应物有更多的吸着能力。