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 An efficient approach for atomic-scale polishing of single-crystal silicon via plasma-based atom-selective etching 基于等离子体的原子选择性刻蚀单晶硅原子级抛光的有效方法
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期刊：International Journal of Machine Tools and Manufacture 作者：Zhidong Fang; Yi Zhang; Rulin Li; Yanan Liang; Hui Deng 出版日期：2020-10-26 |
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