Surface Passivation of HfO₂ by Silane Coupling Agents for Ultra‑High Selectivity Etching of Si₃N₄/SiO₂/HfO₂ Stacks in Phosphoric Acid

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标题	专利、报告等 Surface Passivation of HfO₂ by Silane Coupling Agents for Ultra‑High Selectivity Etching of Si₃N₄/SiO₂/HfO₂ Stacks in Phosphoric Acid
网址	https://doi.org/10.2139/ssrn.6478426
DOI	10.2139/ssrn.6478426 doi
其它	期刊：作者：Mingzhu Yan; Lianlian Li; Kun Yang; Jiaxin Yao; Hang Zhang; et al 出版日期：2026-03-27
求助人	ttttttx 在 2026-09-26 19:42:38 发布自湖北，悬赏 10 积分
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