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标题
Gate length dependence of hot carrier injection degradation in short channel silicon on insulator planar MOSFET
相关领域
材料科学 MOSFET 绝缘体上的硅 阈值电压 热载流子注入 光电子学 降级(电信) 短通道效应 平面的 压力(语言学) 负偏压温度不稳定性 硅 绝缘体(电) 泄漏(经济) 电压 电气工程 晶体管 计算机科学 计算机图形学(图像) 工程类 哲学 宏观经济学 经济 语言学
网址
DOI
10.7498/aps.64.167305 doi
其它 期刊:Acta Physica Sinica
作者:Chang Liu; L JIWU; Wu Wang-Ran; Xiaoyu Tang; Rui Zhang; et al
出版日期:2015-01-01
求助人
无私的青槐 在 2025-10-13 15:49:06 发布自贵州,悬赏 10 积分
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  • 11个月前

    无私的青槐 无私的青槐 Lv1 求助人 发起了本次求助

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