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 Suppression of Hillock Defects on (010) β-Ga2O3 Homoepitaxial Layer Growth via Halide Vapor Phase Epitaxy 卤化物气相外延抑制(010)β-Ga2O3同质外延层生长中的小丘缺陷
相关领域
小丘
外延
卤化物
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图层（电子）
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期刊：Crystal Growth & Design 作者：Hui-Wen Ye; Defan Wu; Zhun Yang; Dacheng Xu; Yuchao Yan; et al 出版日期：2025-04-13 |
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