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Effect of film thickness on the ferroelectric and dielectric properties of low-temperature (400 °C) Hf0.5Zr0.5O2 films |
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期刊:Applied Physics Letters 作者:Si Joon Kim; Jaidah Mohan; Jaebeom Lee; Joy S. Lee; Antonio T. Lucero; et al 出版日期:2018-04-26 |
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(2025-6-4)