Analysis of the electronic and chemical structure in boron and phosphorus passivated 4H-SiC/SiO2 interfaces using HRTEM and STEM-EELS

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标题	Analysis of the electronic and chemical structure in boron and phosphorus passivated 4H-SiC/SiO2 interfaces using HRTEM and STEM-EELS
网址	https://doi.org/10.1063/1.5053595
DOI	10.1063/1.5053595 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Joshua A. Taillon; Christopher J. Klingshirn; Chunkun Jiao; Yongju Zheng; Sarit Dhar; et al 出版日期：2018
求助人	巧克力牛奶配宫保鸡丁盖饭在 2026-02-24 21:27:50 发布自河南，悬赏 10 积分
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