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 Process-Aware Digital Twins by Deep Learning for DUV Photolithography and Plasma Etch 基于深度学习的DUV光刻和等离子体蚀刻过程感知数字孪生
相关领域
光刻
过程（计算）
等离子体刻蚀
蚀刻（微加工）
计算机科学
等离子体
光电子学
工艺工程
材料科学
电子工程
工程类
纳米技术
物理
量子力学
操作系统
图层（电子）
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期刊：IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 作者：Christina L. Lau; Shuhan Ding; Yutong Xie; E. Law; Bahar Kor; et al 出版日期：2025-06-23 |
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