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标题
F2, H2O, and O2 etching rates of diamond and the effects of F2, HF and H2O on the molecular O2 etching of (110) diamond
金刚石的F2、H2O和O2刻蚀速率以及F2、HF和H2O对（110）金刚石分子O2刻蚀的影响
相关领域
钻石 蚀刻（微加工） 化学 氧气 氟 托尔 分析化学（期刊） 反应离子刻蚀 动力学 无机化学 有机化学 量子力学 热力学 物理 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1016/0925-9635(95)00311-8
DOI
10.1016/0925-9635(95)00311-8 doi
其它 期刊：Diamond and Related Materials
作者：Chiheng Chu; Chenyu Pan; John L. Margrave; Robert H. Hauge
出版日期：1995-11-01
求助人
包容可乐 在 2025-07-05 13:52:33 发布自广东，悬赏 10 积分
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