标题 |
![]() Langmuir薄膜沉积n型InP外延层(100)表面化学处理的电子能谱研究
相关领域
铟
基质(水族馆)
化学
磷化铟
电子光谱学
外延
分析化学(期刊)
制作
过渡金属
异质结
金属
沉积(地质)
化学工程
材料科学
光电子学
图层(电子)
X射线光电子能谱
催化作用
有机化学
古生物学
医学
病理
替代医学
砷化镓
沉积物
工程类
地质学
海洋学
生物
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Thin Solid Films 作者:David Clark; Tomasz Fok; G.G. Roberts; Robert W. Sykes 出版日期:1980-08-01 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|