Advances in core technologies for semiconductor manufacturing: applications and challenges of atomic layer etching, neutral beam etching and atomic layer deposition

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标题	Advances in core technologies for semiconductor manufacturing: applications and challenges of atomic layer etching, neutral beam etching and atomic layer deposition
网址	https://pubs.rsc.org/en/content/articlepdf/2025/na/d4na00784...
DOI	10.1039/d4na00784k doi
其它	期刊：Nanoscale advances 作者：Tzu‐Yi Lee; Pei-Tien Chen; Chien-Chi Huang; Hsin‐Chu Chen; Li‐Yin Chen; et al 出版日期：2025-01-01
求助人	Yusang 在 2026-08-06 10:23:04 发布自上海，悬赏 10 积分
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