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  Future of plasma etching for microelectronics: Challenges and opportunities 微电子等离子体刻蚀的未来：挑战与机遇
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期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：G. S. Oehrlein; Stephan M. Brandstadter; Robert L. Bruce; Jane P. Chang; Jessica C. DeMott; et al 出版日期：2024-06-07 |
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