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标题
A distinctive atomic slipping behavior in single atomic layer removal of Cu chemical mechanical polishing
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DOI
10.1016/j.triboint.2025.111152 doi
其它 期刊:Tribology International
作者:M.H. Wang; HongAo Yang; ZiHan Liu; Youliang Su; Bo Zhang
出版日期:2025-08-30
求助人
123 在 2026-10-24 17:34:31 发布自河北,悬赏 10 积分
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