| 标题 |
Effects of Hydrogen and Argon Dilution on the Properties of Silicon and Nitrogen Doped Diamond-Like Carbon Films by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
氢氩稀释对等离子体增强化学气相沉积硅氮掺杂类金刚石薄膜性能的影响
相关领域
材料科学
化学气相沉积
碳纤维
硅
氢
氮气
氩
等离子体
兴奋剂
等离子体增强化学气相沉积
化学工程
类金刚石碳
纳米技术
薄膜
复合材料
光电子学
有机化学
复合数
化学
工程类
物理
量子力学
|
| 网址 |
AI链接 atlas.jp |
| DOI |
暂未提供，该求助的时间将会延长，查看原因？
|
| 其它 |
期刊：The Japan Society of Applied Physics 作者：Yuya Sasaki; Hiroya Osanai; Yusuke Ohtani; Yuta Murono; Masayoshi Satō; et al 出版日期：2021-07-06 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
Hao
酸化土壤改良
Maestro_S
西红柿炒番茄
一条淡水鱼
zzz4743
天才小能喵
OCDer
个性的紫菜
shinysparrow
坚强的广山
SOLOMON
丹霞
Singularity
gjww
不安青牛
热切菩萨
bravo
寻寻觅觅呢
阿大呆呆
皖公网安备34019202002308
