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  Chemical mechanism of formation of two-dimensional electron gas at the Al2O3/TiO2 interface by atomic layer deposition 原子层沉积在Al2O3/TiO2界面形成二维电子气的化学机理
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期刊：Materials Today Advances 作者：Jeongwoo Park; Hyobin Eom; Seong Hwan Kim; Tae Jun Seok; Tae Joo Park; et al 出版日期：2021-12-01 |
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