Current Application Status and Development Direction of High-end Magnetron Sputtering Target in China

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标题	Current Application Status and Development Direction of High-end Magnetron Sputtering Target in China
网址	https://doaj.org/article/f7ec88da8d6f4283bbece49abd831911
DOI	10.15302/j-sscae-2025.09.019 doi
其它	期刊：DOAJ (DOAJ: Directory of Open Access Journals) 作者：李庆奎; Benshuang Sun; Jinjiang He; Chengduo Wang; Yusi Che; et al 出版日期：2026-04-01
求助人	lunar 在 2026-09-20 10:47:36 发布自河南，悬赏 10 积分
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