Air-Stable Low Dielectric Constant SiOx/AlOx Nanolaminate Films Deposited by Thermal Pulsed Chemical Vapor Deposition with Continuous Carbon Doping For Interlayer Dielectric

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标题	Air-Stable Low Dielectric Constant SiOx/AlOx Nanolaminate Films Deposited by Thermal Pulsed Chemical Vapor Deposition with Continuous Carbon Doping For Interlayer Dielectric
网址	https://doi.org/10.1021/acsanm.5c03189
DOI	10.1021/acsanm.5c03189 doi
其它	期刊：ACS applied nano materials 作者：Jing Mu; Xianglong Wang; James Huang; Charles H. Winter; Kesong Wang; et al 出版日期：2025-08-15
求助人	王佳豪在 2026-07-16 22:54:30 发布自福建，悬赏 10 积分
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