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A spectroscopic ellipsometry study of the abnormal scaling behavior of high-rate-deposited microcrystalline silicon films by VHF-PECVD technique
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http://dx.doi.org/10.7498/aps.58.4123
DOI
10.7498/aps.58.4123 doi
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小米粒 在 2025-11-21 10:02:30 发布自山东，悬赏 10 积分
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