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Novel Thermally-Stable Hafnium and Zirconium ALD Precursors 相关领域
铪
锆
热稳定性
材料科学
原子层沉积
金属
化学
纳米技术
有机化学
薄膜
冶金
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| 其它 |
期刊:2007 IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC) 作者:Audrey Pinchart; Nicolas Blasco; Christophe Lachaud; Anthony Schleisman; Christian Dussarrat; et al 出版日期:2007-06-29 |
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