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XPS and depth resolved SXES study of HfO2/Si interlayers
HfO2/Si中间层的XPS和深度分辨SXES研究
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网址
https://doi.org/10.1016/j.elspec.2010.04.005
DOI
10.1016/j.elspec.2010.04.005 doi
其它 期刊：Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena
作者：Е. О. Филатова; Andréy Sokolov; А. А. Овчинников; S. Yu. Tver’yanovich; E. P. Savinov; et al
出版日期：2010-04-26
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老迟到的从波 在 2025-08-05 21:00:20 发布自山东，悬赏 10 积分
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