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标题
Single crystal silicon: surface evolution regularity of chemical etching and effect of nano jet polishing on damage precursor
相关领域
抛光 材料科学 蚀刻（微加工） 硅 各向同性腐蚀 表面粗糙度 喷射（流体） Crystal（编程语言） 纳米- 复合材料 表面光洁度 杂质 光热治疗 兴奋剂 纳米技术 冶金 光电子学 图层（电子） 化学 物理 热力学 有机化学 程序设计语言 计算机科学
网址
https://doi.org/10.1117/12.2524713
DOI
10.1117/12.2524713 doi
其它 期刊：Second Symposium on Novel Technology of X-Ray Imaging
作者：Wanli Zhang; Feng Shi; Yifan Dai; Ci Song; Ye Tian; et al
出版日期：2019-05-10
求助人
万能图书馆 在 2025-10-13 20:04:02 发布自福建，悬赏 20 积分
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