Oxygen partial pressure controlling epitaxy of CuGaO2 and CuGa2O4 films on β-Ga2O3 substrate by reactive deposition epitaxy

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标题	Oxygen partial pressure controlling epitaxy of CuGaO2 and CuGa2O4 films on β-Ga2O3 substrate by reactive deposition epitaxy β-Ga2O3衬底上氧分压控制外延CuGaO2和CuGa2O4薄膜相关领域外延分压材料科学基质（水族馆）分析化学（期刊）异质结氧气透射电子显微镜半最大全宽薄膜光电子学纳米技术化学图层（电子）地质学有机化学海洋学色谱法
网址	https://doi.org/10.1016/j.ceramint.2021.11.023
DOI	10.1016/j.ceramint.2021.11.023 doi
其它	期刊：Ceramics international 作者：Jianjun Shi; Hongwei Liang; Xiaochuan Xia 出版日期：2022-02-01
求助人	一只柴在 2024-04-22 12:15:12 发布自上海，悬赏 10 积分
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