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Improved nucleation of TiN atomic layer deposition films on SiLK low-k polymer dielectric using an Al2O3 atomic layer deposition adhesion layer
Al2O3原子层沉积粘附层改善蚕丝低k聚合物介质上TiN原子层沉积膜的成核
相关领域
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锡
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期刊:Journal of vacuum science & technology 作者:Jeffrey W. Elam; Christopher A. Wilson; Mikael Schuisky; Z. A. Sechrist; Steven M. George 出版日期:2003-05-01 |
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