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标题
Effect of sputtering working pressure on the reliability and performance of amorphous indium gallium zinc oxide thin film transistors
溅射工作压力对非晶铟镓锌氧化物薄膜晶体管可靠性和性能的影响
相关领域
薄膜晶体管 材料科学 溅射 无定形固体 镓 阈值电压 光电子学 薄膜 X射线光电子能谱 铟 溅射沉积 薄脆饼 晶体管 冶金 复合材料 电压 纳米技术 电气工程 化学 化学工程 结晶学 图层（电子） 工程类
网址
https://pubs.aip.org/aip/adv/article-pdf/doi/10.1063/5.01884...
AI链接 aip.org aip.org doaj.orgdoi.org
DOI
10.1063/5.0188437 doi
其它 期刊：AIP Advances
作者：T. J. Lee; Jin-Seok Park; Saeroonter Oh
出版日期：2024-03-01
求助人
风中擎 在 2025-11-28 14:29:17 发布自湖南，悬赏 10 积分
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