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  Effect of sputtering working pressure on the reliability and performance of amorphous indium gallium zinc oxide thin film transistors 溅射工作压力对非晶铟镓锌氧化物薄膜晶体管可靠性和性能的影响
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期刊：AIP Advances 作者：T. J. Lee; Jin-Seok Park; Saeroonter Oh 出版日期：2024-03-01 |
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