Optimization theory and application of epitaxial layer thickness uniformity in vertical MOCVD reaction chamber with multiple MO nozzles

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标题	Optimization theory and application of epitaxial layer thickness uniformity in vertical MOCVD reaction chamber with multiple MO nozzles 多MO喷嘴立式MOCVD反应室外延层厚度均匀性优化理论及应用相关领域金属有机气相外延外延材料科学薄脆饼光电子学异质结图层（电子）化学气相沉积喷嘴光学复合材料物理热力学
网址	https://doi.org/10.7498/aps.73.20231555
DOI	10.7498/aps.73.20231555 doi
其它	期刊：Acta Physica Sinica 作者：Jianjun Li; Yu-Zheng Cui; Cong-Le Fu; Xiaowei Qin; Yuchang Li; et al 出版日期：2023-11-24
求助人	十个勤天在 2025-12-15 09:10:48 发布自江苏，悬赏 10 积分
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