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 Growth of metastable 2H-CaSi2 films on Si(111) substrates with ultrathin SiO2 films by solid phase epitaxy 相关领域
材料科学
外延
亚稳态
硅
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期刊：Applied Physics Express 作者：Keiichiro Oh‐ishi; Mikio Kojima; Takashi Yoshizaki; Arata Shibagaki; Takafumi Ishibe; et al 出版日期：2023-11-20 |
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