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标题
Enhancing device reliability in Pt/Ti/Al2O3/p-Ge metal-oxide-semiconductor memcapacitor via CF4 plasma treatment of Ge
CF4等离子体处理Ge提高Pt/Ti/Al2O3/p-Ge金属氧化物半导体存储器件可靠性
相关领域
材料科学 可靠性(半导体) 等离子体 氧化物 金属 半导体 光电子学 冶金 量子力学 物理 功率(物理)
网址
DOI
10.1016/j.mssp.2025.109576 doi
其它 期刊:Materials Science in Semiconductor Processing
作者:Eunjeong Cho; Min Jeong Kim; Se‐Young Oh; Woojin Park; Jongwon Yoon; et al
出版日期:2025-04-23
求助人
悦耳万天 在 2025-07-01 12:06:07 发布自浙江,悬赏 10 积分
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