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Effect of ozone treatment on the optical and electrical properties of HfSiO thin films 臭氧处理对HfSiO薄膜光电性能的影响
相关领域
臭氧
极化率
电介质
原子层沉积
折射率
薄膜
材料科学
化学
光电子学
纳米技术
分子
有机化学
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期刊:Applied Physics A 作者:Yang Geng; Wen Yang; Shang-Bin Zhu; Yuan Zhang; Qingqing Sun; et al 出版日期:2013-11-15 |
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