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Optimal phase shift mask and multilayer stack with the evaluation of imaging performance and process latitude in extreme ultraviolet high numerical aperture
极紫外高数值孔径成像性能和工艺纬度的最佳相移掩模和多层叠层
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期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:In-Hwa Kang; Jang-Gun Park; Chung-Hyun Ban; Hye-Keun Oh 出版日期:2021-04-20 |
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