| 标题 |
 Demonstration of Highly Robust 5 nm Hf0.5Zr0.5O₂ Ultra-Thin Ferroelectric Capacitor by Improving Interface Quality 通过改善界面质量演示高鲁棒性5 nm Hf0.5Zr 0.5 O₂超薄铁电电容器
相关领域
电容器
材料科学
铁电性
光电子学
质量（理念）
铁电电容器
电气工程
接口（物质）
电子工程
电压
电介质
工程类
复合材料
物理
量子力学
毛细管作用
毛细管数
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：IEEE Electron Device Letters 作者：Yan-Kui Liang; Jui-Sheng Wu; Chih-Yu Teng; Hua-Lun Ko; Quang Ho Luc; et al 出版日期：2021-08-05 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
SYLH
昏睡的蟠桃
cdercder
卡卡西
jenningseastera
冰魂
bc
科研助手6
大腚疯猪
平常的毛豆
ZhouYW
诸葛御风
失眠醉易
期待未来的自己
yizhouchang
iNk
发财暴富财富自由没我快吧嘻嘻嘻
遇上就这样吧
pluto
kingwill
皖公网安备34019202002308
