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![]() 通过提高晶格收缩产生的CrxNbMoTaW的核密度来提高MOSFET器件的辐照稳定性
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期刊:Materials Today Physics 作者:Wenjing Wei; Hong Yang; Xiaolei Shi; Yang Li; Kai Cui; et al 出版日期:2024-12-01 |
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