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 High‐Resolution Nanopatterning: Recent Progress in Simple and Cost‐Effective Top‐Down Lithography for ≈10 nm Scale Nanopatterns: From Edge Lithography to Secondary Sputtering Lithography (Adv. Mater. 35/2020) 高分辨率纳米图案：用于约10纳米尺度纳米图案的简单且成本有效的自上而下光刻的最新进展：从边缘光刻到二次溅射光刻（Adv.Mater.35/2020）
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期刊：Advanced Materials 作者：Woo‐Bin Jung; Sungwoo Jang; Soo‐Yeon Cho; Hwan‐Jin Jeon; Hee‐Tae Jung 出版日期：2020-09-01 |
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