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标题
High-Aspect-Ratio Silicon Metasurfaces: Design, Fabrication, and Characterization
高纵横比硅超表面：设计、制造和表征
相关领域
太赫兹辐射 材料科学 制作 硅 深反应离子刻蚀 光电子学 超材料 钝化 传输（电信） 蚀刻（微加工） 纵横比（航空） 反应离子刻蚀 光学 纳米技术 计算机科学 图层（电子） 物理 电信 医学 替代医学 病理
网址
https://www.mdpi.com/2076-3417/13/17/9607/pdf?version=169289...
AI链接 mdpi.com mdpi.comdoi.org
DOI
10.3390/app13179607 doi
其它 期刊：Applied Sciences
作者：Yao Yao; Zhuo Wang; Zhiyan Zhu; Yu He; Shulin Sun; et al
出版日期：2023-08-24
求助人
Jasper 在 2025-08-28 20:04:23 发布，悬赏 10 积分
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