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标题
First-Principles Calculation Guided High-Purity Layer Control of 4 in. MoS2 by Plasma RIE
第一性原理计算指导4英寸高纯层控制。等离子体RIE法MoS2
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网址
https://doi.org/10.1021/acs.chemmater.2c02914
DOI
10.1021/acs.chemmater.2c02914 doi
其它 期刊：Chemistry of Materials
作者：Changmin Kim; Muyoung Kim; Dong-Hyun Cho; Chaitanya Kanade; Hyunho Seok; et al
出版日期：2023-01-18
求助人
12345 在 2025-12-25 21:59:47 发布自上海，悬赏 10 积分
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