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标题
The Dry Etching of TiN Thin Films Using Inductively Coupled CF4/Ar Plasma
网址
DOI
10.4313/teem.2013.14.2.67 doi
其它 期刊:Transactions on Electrical and Electronic Materials
作者:Jong-Chang Woo; Chang-Auck Choi; Young-Hee Joo; Han-Soo Kim; Chang-Il Kim
出版日期:2013-04-25
求助人
甜甜钢铁侠 在 2026-07-10 10:35:05 发布自安徽,悬赏 20 积分
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