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[高分]
 Effect of mask geometry on high aspect ratio silicon etching using Cl2/O2 plasma 掩模几何形状对Cl2/O2等离子体高长宽比硅刻蚀的影响
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Xingyi Shi; Han Luo; Shahid Rauf; Jason Kenney; Geuntak Lee; et al 出版日期：2025-07-10 |
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