The Process and Mechanism of Preparing Nanoporous Silicon: Helium Ion Implantation

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标题	The Process and Mechanism of Preparing Nanoporous Silicon: Helium Ion Implantation 制备纳米多孔硅的工艺及机理：氦离子注入相关领域单晶硅氦材料科学离子注入硅气泡多孔硅纳米孔半导体离子纳米技术原子物理学光电子学化学物理机械有机化学
网址	https://www.mdpi.com/2079-4991/13/8/1324/pdf?version=1681115...
DOI	10.3390/nano13081324 doi
其它	期刊：Nanomaterials 作者：Jianguang Wang; Kelin Zhu; Xiaoling Wu; Guoan Cheng; Ruiting Zheng 出版日期：2023-04-10
求助人	快看文献在 2025-08-19 20:30:26 发布自黑龙江，悬赏 10 积分
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