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 Characteristics on ITO/Cu/ITO Films Deposited by Using DC Magnetron Sputter Technology 相关领域
溅射沉积
高功率脉冲磁控溅射
材料科学
腔磁控管
光电子学
溅射
工程物理
冶金
纳米技术
薄膜
工程类
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期刊：New Physics Sae Mulli 作者：Mijoung KIM; Young-An Chae; Hwanyeol Park; Hyonsook KIM; Deokjoon Cha; et al 出版日期：2014-11-28 |
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