Molecular-Dynamics-Based Profile Evolution Simulation for Sub-10-nm Si Processing Technology

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标题	Molecular-Dynamics-Based Profile Evolution Simulation for Sub-10-nm Si Processing Technology 相关领域分子动力学沟槽蚀刻（微加工）材料科学原子单位从头算各向同性腐蚀化学物理纳米技术统计物理学计算物理学计算化学物理化学图层（电子）量子力学
网址	https://doi.org/10.1143/apex.2.116501
DOI	10.1143/apex.2.116501 doi
其它	期刊：Applied Physics Express 作者：Hirotaka Tsuda; Koji Eriguchi; Kouichi Ono; Hiroaki Ohta 出版日期：2009-11-06
求助人	Ava 在 2025-10-13 22:15:44 发布自山西，悬赏 10 积分
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