The potential of e-beam lithography for micro- and nano-optics on large areas

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标题	[高分] The potential of e-beam lithography for micro- and nano-optics on large areas 电子束光刻在大面积微纳米光学中的潜力相关领域平版印刷术偏振器光学全息术电子束光刻材料科学 X射线光刻无光罩微影纳米- 下一代光刻模版印刷极紫外光刻光电子学抵抗纳米技术物理双折射图层（电子）复合材料
网址	https://doi.org/10.1117/12.2658440
DOI	10.1117/12.2658440 doi
其它	期刊：作者：Uwe D. Zeitner; Michael Banasch; Marcus Trost 出版日期：2023-04-30
求助人	相信未来在 2024-10-29 09:16:18 发布自山东，悬赏 50 积分
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