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 Morphology of films deposited on the sidewall during the Bosch process using C4F8 plasmas C4F8等离子体Bosch工艺中侧壁沉积薄膜的形貌
相关领域
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期刊：Journal of Micromechanics and Microengineering 作者：Tomoyuki Nonaka; Kazuo Takahashi; Akimi Uchida; Osamu Tsuji 出版日期：2024-07-16 |
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