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  BE-PLUS: a new base editing tool with broadened editing window and enhanced fidelity BE-PLUS：一个新的基础编辑工具，具有更宽的编辑窗口和增强的保真度
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期刊：Cell Research 作者：Wen Jiang; Songjie Feng; Shisheng Huang; Wenxia Yu; Guanglei Li; et al 出版日期：2018-06-06 |
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