Two-metal-level semi-damascene interconnect at metal pitch 18 nm and aspect-ratio 6 routed using fully self-aligned via

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标题	Two-metal-level semi-damascene interconnect at metal pitch 18 nm and aspect-ratio 6 routed using fully self-aligned via 采用全自对准过孔布线的金属间距18 nm、纵横比6的双金属级半镶嵌互连相关领域铜互连互连材料科学纵横比（航空）金属光电子学电子工程计算机科学冶金电信工程类电介质
网址	https://doi.org/10.1109/iedm45741.2023.10413784
DOI	10.1109/iedm45741.2023.10413784 doi
其它	期刊：作者：Anshul Gupta; Giulio Marti; Gilles Delie; Souvik Kundu; Stefan Decoster; et al 出版日期：2023-12-09
求助人	马家辉在 2024-05-12 17:34:31 发布自陕西，悬赏 10 积分
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