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Leakage Suppression Across Temperature in Al1-xScxN Thin Film Ferroelectric Capacitors Through Boron Incorporation |
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期刊:IEEE Electron Device Letters 作者:Pedram Yousefian; Xiangmin Tong; Jonathan M. Tan; Dhiren K. Pradhan; Deep Jariwala; et al 出版日期:2025-07-10 |
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(2025-6-4)